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MBR膜處理半導體行業(yè)廢水

簡(jiǎn)要描述:MBR膜處理半導體行業(yè)廢水
 MBR膜生物反應器是膜分離技術(shù)和生物降解技術(shù)的結合,它可代替傳統凈水單元的二沉池,是一種高效的凈水處理技術(shù)。

  • 更新時(shí)間:2024-03-21
  • 瀏覽次數:682

詳細介紹

處理量500m3/h

MBR膜處理半導體行業(yè)廢水

MBR膜處理半導體行業(yè)廢水

1、概況

  半導體制造行業(yè)作為用水大戶(hù),每日耗水以千噸計。隨著(zhù)國內環(huán)保要求,工廠(chǎng)每日耗水量有所要求,因而必須對排放的廢水進(jìn)行回收。

  MBR膜生物反應器是膜分離技術(shù)和生物降解技術(shù)的結合,它可代替傳統凈水單元的二沉池,是一種高效的凈水處理技術(shù)。膜分離反應器的分類(lèi)方式有很多種,其中,浸沒(méi)式膜生物反應器的運行能耗較低、管理方便靈活,因此被廣泛用于水處理工藝中[1]。

  MBR作為一種新型的凈水工藝,與傳統的活性污泥法相比具有如下特點(diǎn)[2]:

  a.固液分離效率高,凈水效果好,耐沖擊負荷能力強。

  由于膜的高效截留作用,MBR工藝可有效截留水中的懸浮物、細菌、大分子有機物等。微生物在生物反應器內不斷積累,系統內微生物濃度可達活性污泥法的5~10倍,降低了污泥負荷,提高了容積負荷,使得難降解有機物可以得到更好的去除,并且具有一定的抗沖擊負荷能力。

  b.污泥泥齡長(cháng),污泥產(chǎn)量少。

  膜的分離作用可使微生物*截留在生物反應器內,實(shí)現水力停留時(shí)間和固體停留時(shí)間的*分離。反應器內泥齡長(cháng),排泥量少,不僅減少了污泥處置費用,而且使得一些增殖緩慢的細菌如硝化菌及難降解有機物分解菌得到很好的生長(cháng),提高了凈水效果。

  c.設備緊湊,占地面積小,自動(dòng)化程度高,操作管理便捷。

  MBR也存在一些缺點(diǎn):

  a.膜污染。

  膜污染直接導致膜通量下降,操作成本增加。目前,膜污染問(wèn)題是制約膜技術(shù)大規模應用的關(guān)鍵問(wèn)題之一,如何緩解膜污染成為當前膜技術(shù)研究領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)。

  b.膜的生產(chǎn)及運行成本高。

  由于較高的生產(chǎn)和運行成本,膜技術(shù)的大規模應用得到了很大的限制[3]。

  針對半導體廢水的特殊性、多樣性。我們針對其排放的DWWA(一般酸漿廢水)、DOWW(一般有機廢水)進(jìn)行回收,并設計相應的MBR處理系統。

  2、工程設計

  2.1 水質(zhì)狀況及設備參數

  選用上海某大型半導體制造公司車(chē)間排放液,廢水總量為3090m3/d,水質(zhì)狀況見(jiàn)表1。

1.jpg

  2.2 工藝流程

2.jpg

  DWWA/DOWW廢水進(jìn)入原水調整池,經(jīng)調解PH調整池調節后,進(jìn)入曝氣池進(jìn)行生物處理,然后經(jīng)MBR膜進(jìn)行固水分離后進(jìn)入連續活性炭塔,深度去除TOC后,再經(jīng)過(guò)重力式過(guò)濾器除去顆粒物,最后通過(guò)RO去除水中剩余離子,最后回收至純水系統。

  2.3 主要處理構筑物和控制程序

  原水調整池、pH調整池、曝氣池及MBR池、過(guò)濾器水槽采用RC+FRP材質(zhì),連續活性炭、重力過(guò)濾器采用CS/RL材質(zhì),重力過(guò)濾器采用CS/TEP材質(zhì)。

  MBR槽內設9組MBR膜,選用三菱,為PVDF材質(zhì),孔徑為0.4um。

  MBR膜參數如表2:

3.jpg

  主要控制儀表:

  ORP主要用于檢測廢水中氧化性物質(zhì),防止大量氧化性物質(zhì)進(jìn)入系統,對細菌造成不可逆的損傷;PH計主要用于監控水中PH值并控制NaOH投加量;MLSS用于監控水中污泥濃度;TOC/Turb(濁度計)用于監控MBR產(chǎn)水水質(zhì)狀況;DO用于監控水中溶解氧濃度;負壓表用于監控MBR產(chǎn)水泵的吸入口壓力。

  3、MBR膜運行

  3.1 MBR運行情況

  經(jīng)過(guò)兩年的連續運行,控制系統進(jìn)水PH在9.3左右,控制MBR污泥濃度在5000mg/L左右,DO在2mg/L左右,MBR產(chǎn)水泵負壓在-20kpa~-25kpa,MBR產(chǎn)水TOC穩定在5mg/L以下,平均去除率達到95%以上,MBR產(chǎn)水PH在4.5左右,Turb在0.1mg/L以下。

  MBR運行條件控制:

  a.由于半導體行業(yè)排放的DWWA、DOWW廢水營(yíng)養不足,難以維持高濃度的MLSS,故實(shí)際運行中控制在5000mg/L左右

  b.由于MBR膜易受無(wú)機金屬垢堵塞,故降低系統運行PH值,控制在4.5左右,既可以降低系統NaOH投加量以降低運行成本,又可以預防MBR膜堵塞,降低MBR膜清洗頻率。在兩年的運行中,僅進(jìn)行檸檬酸清洗1次。

  c.MBR膜產(chǎn)水泵吸入口負壓控制在-20kpa~-25kpa,實(shí)際運行中每月進(jìn)行一次NaClO清洗,此時(shí)負壓在-25kpa左右。清洗濃度為3000ppm。

  d.MBR膜運行模式:吸7min停1min,根據負壓增長(cháng)趨勢可做調節。

  e.由于曝氣管長(cháng)時(shí)間使用,變干的污泥會(huì )堵塞曝氣孔,因此要進(jìn)行定期清洗。清洗方式如下:停止MBR產(chǎn)水泵及曝氣風(fēng)機,打開(kāi)管路泄氣閥,曝氣管內流入池水并關(guān)閉泄氣閥,再打開(kāi)曝氣風(fēng)機和產(chǎn)水泵。一般每1~6小時(shí)清洗一次。

  3.2 MBR出水水質(zhì)

  MBR產(chǎn)水TOC在3.5mg/L左右,Tubr濃度小于0.1mg/L系統產(chǎn)水TOC小于0.1mg/L,電導率小于100us/cm,PH在4.5左右,SiO2小于0.1mg/L。

  4、主要技術(shù)經(jīng)濟指標

  此系統在舊有系統的基礎上進(jìn)行改造,投入成本約20,000K,運行成本約3.8RMB/m3。


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